Author(s): Zhang Junje Liu Jinke Hu Jtandong
Pages: 17-25
Year: 1984 Issue:  4
Journal: Materials Science and Technology
Keyword:  室温变形; 变形度; 渗硼速度; 硼化物层; 相结构; 位错密度; 渗硼剂; 室温形变; 变形量; 渗层深度;
Abstract: 研究了室温变形对渗硼速度和硼化物层相结构的影响。结果表明,随变形度增加,层深增加,并在某一变形度下达到极大值,而后随变形度增加,层深逐渐减小。渗硼温度、时间不同,将引起最佳变形度层深增加幅度发生变化。在渗剂中含B₄C低的（低渗速）,室温变形提高渗速的作用比较大,而含B₄C高的（高渗速）则室温变形提高渗速的作用明显减小。随室温变形度增加,渗层中FeB相含量降低,从而改善了渗层脆性。室温变形提高硼扩散速度的作用,与高温下保留较高的位错密度有密切关系;较小的初始晶粒与较高的晶界迁移速率也是提高其扩散速度的重要因素。