Author(s): Sun Jintan, Qiu Derun
Pages: 28-32
Year: 1994 Issue:  1
Journal: Materials Science and Technology
Keyword:  硼酸三甲脂; 掺硼; 硬度; 结合力; 光学带隙;
Abstract: 试验观测了掺硼对氢化非晶碳化硅膜生长速率、膜的组分、光学带隙、电导率、硬度和结合力的影响．结果证明，用薄离子作分解（ＳｉＨ４和ＣＨ４）混合气体制备的α－Ｓｉ１－ｘ：ＣＸ：Ｈ膜能有效的掺杂．硼掺杂可改变光学带隙、电导率和硬度．退火可增加薄膜的硬度和结合力．